Idąc krok dalej to podejście może umożliwić uzyskanie struktury typu meta-materiału, którą można później połączyć z warstwami funkcjonalnymi produkowanych urządzeń MEMS/NEMS. Foto- i elektronolitografia w celu utworzenia warstw funkcjonalnych MEMS/NEMS. Obie techniki umożliwiają wytwarzanie wzorów nm. Obie techniki umożliwiają wytwarzanie wzorców w skali nm, umożliwiając w ten sposób bezproblemową produkcję logiki, pamięci i obwodów zasilania MEMS/NEMS dla w pełni funkcjonalnego urządzenia, bez potrzeby mikro-nano-montażu, eliminując niezbędne koszty i robociznę oraz zapewniając niezbędną produkcję skalowalność. Przygotowanie polimerowej obudowy MEMS/NEMS i cięcie laserem przygotowanych wielowarstwowych cienkich arkuszy w osobne urządzenia. Wykorzystując wbudowane warstwy funkcjonalne, wytworzone urządzenia można przekształcić z ich płaskiej w wolumetryczną formę, w oparciu o zasadę origami, poprzez zastosowanie zewnętrznego źródła energii, takiego jak światło, mikrofale lub ewentualnie pole magnetyczne.