W latach 70. powszechnym stało się oznaczanie wielowarstwowych pokryć obiektywów fotograficznych, na przykład SMC (od ) Pentaxa, T* (od ) Zeissa (RFN), EBC (od ) Fuji czy MC (od ) Zeissa (NRD). Obecnie zwyczaj ten został przez niektórych producentów zarzucony.
Zastosowanie i znaczenie W fotografii dobra jakość powłok przeciwodblaskowych naniesionych na soczewki tworzące obiektyw ma zasadniczy wpływ na eliminację efektu flary, a także podnosi kontrast powstającego obrazu.
Wprowadzenie pokryć antyodblaskowych miało duże znaczenie dla możliwości wytwarzania obiektywów fotograficznych o dużej liczbie soczewek. Odbicie światła na każdej niepokrytej granicy powietrze-szkło powoduje stratę około 4% światła. Przy ośmiu wolno stojących soczewkach (16 takich granic) strata światła wynosi około 50%, a światło odbijane wewnątrz obiektywu dodatkowo pogarsza przenoszenie kontrastu. Powłoki znacząco zmniejszają ten efekt, a liczba soczewek w złożonych obiektywach wysokiej klasy może wynosić ponad 20.
Zobacz też optyka cienkich warstw przegląd zagadnień z zakresu optyki
Przypisy
Bibliografia
Kategoria:Urządzenia optyczne