Fotorezyst – rodzaj emulsji światłoczułej stosowany głównie w fotolitografii oraz fotograwerowaniu do wytworzenia odpowiedniego wzoru na podłożu.
Rodzaje fotorezystów alt=Porównanie fotorezystów|thumb|Porównanie procesów naświetlania i wywoływania fotorezystów. Negatywowe – po wywołaniu obszary naświetlone pozostają na podłożu.
Pozytywowe – fotorezyst z naświetlonych obszarów zostaje usunięty przy wywoływaniu.
Image reversal – w tym wypadku obraz negatywowy jest tworzony w fotorezyście pozytywowym. Procedura obejmuje pierwsze naświetlenia przez fotomaskę, wygrzanie, a następnie naświetlenie całej próbki bez maski (ang. flood exposure).
Metody nakładania fotorezystu na podłoże W postaci roztworów fotorezysty mogą być nakładane na trzy sposoby: mały|Fotorezyst podczas rozwirowywania na podłożu krzemowym rozwirowanie (ang. spin coating) – porcja roztworu fotorezystu jest umieszczana na podłożu, które jest następnie wprowadzane w ruch wirowy. Najczęściej prędkość wirowania mieści się w granicach 500–6000 obr./min. Siła odśrodkowa powoduje usunięcie nadmiaru fotorezystu i pokrycie podłoża równomierną warstwą fotorezystu. Ta metoda zapewnia najbardziej jednorodne i powtarzalne warstwy. Problemy pojawiają się w przypadku pokrywania krawędzi oraz otworów.