La lithographie en immersion est une technique de gravure de plaques de microprocesseurs, dans un bain aqueux clair, inventé au sein de la société TSMC.
Ce procédé assure une meilleure fiabilité de la gravure, et donc un taux de déchets moins élevéCourse aux nanomètres > Lithographie par immersion, sur journaldunet.com, consulté le 27 septembre 2018. Elle permet la production de composants de très petite taillePremières puces produites à partir de la lithographie par immersion. L'Usine nouvelle, 7 janvier 2005. Lire en ligne.
Notes et références
Catégorie:Microlithographie