Depunere chimică în fază de vapori (simbolizat CVD, din ) este o metodă de depunere utilizată pentru producerea unor materiale solide de calitate înaltă, realizată de obicei sub vid. Metoda este adesea utilizată în industria semiconductorilor pentru producerea de filme subțiri.
Într-o metodă CVD obișnuită, plăcuța substrat este expusă unuia sau mai multor precursori volatili, care au rolul de a reacționa și a se depune pe suprafața substratului sub forma produsului dorit. De obicei se formează și produși secundari volatili, iar aceștia trebuie eliminați din camera de reacție.
Vezi și
Amplificator operațional ASIC Celulă solară Colector solar Circuit integrat analogic Circuit integrat hibrid Circuit logic CMOS Diodă EPROM EEPROM EEPROM Serial Efect fotomagnetic Epitaxie Fotoelectrochimie Joncțiune p-n Memorie ROM Metodă Czochralski Panou solar NVRAM Plăcuță semiconductoare Rafinare Serigrafie Siliciu Tranzistor Tranzistor bipolar Tranzistor IGBT Tranzistor MOSFET Tranzistor unipolar
Referințe
Legături externe Tehnici de depunere controlată
Categorie:Acoperiri Categorie:Procese chimice Categorie:Fabricarea dispozitivelor semiconductoare