Produkcja w zaawansowanych zakładach produkcyjnych jest całkowicie zautomatyzowana, a transport płytek krzemowych z maszyny do maszyny odbywa się za pomocą zautomatyzowanych systemów obsługi materiałów.
Do firm produkujących maszyny wykorzystywane w procesie wytwarzania półprzewodników przemysłowych zaliczają się ASML, Applied Materials, Tokyo Electron i Lam Research.
Wymiar charakterystyczny Wymiar charakterystyczny (ang. feature size) jest definiowany jako najmniejsza szerokość linii jaką można uzyskać w procesie produkcji.
Każda nowoczesna generacja procesów wytwarzania półprzewodników jest definiowana przez minimalny wymiar charakterystyczny podawany w nanometrach (historycznie w mikrometrach) dla długości bramki tranzystora np. technologia produkcji 22 nm.
Początkowo długość bramki tranzystora była mniejsza niż to by wynikało z technologii produkcji jednak ten trend się odwrócił w 2009. Wymiar charakterystyczny może nie mieć odzwierciedlenia do wartości ogłaszanej w przekazach medialnych. Dla przykładu, technologia produkcji 10 nm Intela posiada tranzystory FinFET z kanałem o szerokości 7 nm, więc technologia 10 nm Intela jest podobna do technologii 7 nm TSMC.