stopu o dużej względnej zmianie oporu (ΔR/R) ≈ 4% dla grubości ≥ 100 nm a równocześnie małej anizotropii (pole anizotropii HK ≤ 40 Oe), bliskiej zera stałej magnetostrykcji) z anizotropią jednoosiową w płaszczyźnie warstwy. Anizotropia jednoosiowa w cienkich warstwach permaloju może być indukowana polem magnetycznym w procesie osadzania lub wygrzewania. Proces przemagnesowania takich warstw dla natężenia pola magnetycznego równoległego i prostopadłego do osi łatwej EA (easy axis) przedstawiono odpowiednio na rys. 2.3, a i b. Dla pola magnetycznego równoległego do osi łatwej namagnesowanie jest cały czas równoległe do EA (ξ + ε = 0), a jedynie w polu H = HC (HC – pole koercji) zachodzi skokowa zmiana zwrotu wektora magnetyzacji (zmiana o 180°), w efekcie pętla histerezy jest prostokątna (kąty ε, ξ, Θ zdefiniowano na rys. 2). Dla H prostopadłego do osi łatwej (Θ = 90°) zależność momentu magnetycznego od natężenia pola magnetycznego M(H) nie wykazuje histerezy i jest liniowa aż do nasycenia (w tym zakresie natężenia pola magnetycznego również kąt (ξ + ε) jest liniową funkcją H).