Znacznie droższe są maski chromowe. Wykonane są ze szkła borokrzemowego lub szkła kwarcowego, które jest pokryte warstwą chromu. Masek ze szkła borokrzemowego można używać w zakresie nadfioletu (do około 300 nm), a masek ze szkła kwarcowego aż do dalekiego nadfioletu (do około 160–170 nm). Czasem powierzchnia maski jest pokryta dodatkowymi powłokami jak np. powłoki przeciwodblaskowe lub warstwy przesuwające fazę światła (ang. phase shift mask). Rozdzielczość wzorów na takich maskach może sięgać dziesiątek-setek nanometrów. Niekoniecznie oznacza to, że możliwe będzie uzyskanie tej samej rozdzielczości na naświetlonej próbce. Wynika to między innymi ze sposobu naświetlania, grubości i rozdzielczości fotorezystu, rodzaju maski, długości fali światła itp.
Rodzaje naświetlarek Zadaniem naświetlarki, oprócz naświetlenia próbki, jest także zgranie wzoru maski z próbką lub wzorem na próbce. Proces ten jest nazywany centrowaniem. W nowoczesnych naświetlarkach może odbywać się w sposób automatyczny, w innym wypadku operator wykonuje centrowanie z pomocą mikroskopu.