W tym miejscu warto wspomnieć także o elektronolitografii, która mimo że nie jest metodą wykorzystującą światło, ma bardzo duże znaczenie dla fotolitografii. Jest to główna metoda wykonywania wysokorozdzielczych masek fotolitograficznych. Wymiary krytyczne wzorów uzyskiwanych tą metodą sięgają pojedynczych nanometrów.
Naświetlanie Geometria układu naświetlającego Na tym etapie krytyczne dla całej operacji jest prawidłowe centrowanie wzoru maski i powierzchni wytrawianej płytki, szczególnie istotne, gdy na płytce znajdują się już naniesione poprzednio elementy obwodu. Centrowanie odbywa się wzdłuż osi i a także kontrolowana jest równoległość położenia maski w stosunku do podłoża. W przypadku układów doświadczalnych centrowanie wykonuje operator za pomocą mikroskopu optycznego, w układach produkcji masowej wykonuje je komputer automatycznie rozpoznający zaprogramowany wzór. Stosuje się trzy rodzaje naświetlania: stykowe, zbliżeniowe (ang. proximity) i projekcyjne.
W pierwszej metodzie maska bezpośrednio styka się z warstwą rezystu, co powoduje stosunkowo szybkie zużywanie się maski i naraża ja na zniszczenie np. przez cząsteczki pyłu.